①在一定条件下，羰基可以与乙炔钠(HCCNa)发生反应，如：

 (碳碳双键)在一定条件下与氧化剂作用，如：

现有似化合物A为起始物的一系列反应，A为只有一个侧链的芳香烃(某些反应的条件已略去)。已知分子中含有两个 (碳碳双键)的烃叫二烯烃。含有结构的二烯烃不稳定。

试回答：

(1)A的结构简式是________________________________________________。

(2)反应过程中属于加成反应的是(填编号)____________________。

(3)写出下列反应的化学方程式：

B+E→G_________________________________________________________。

E→F____________________________________________________________。

(4)与B互为同分异构体，含有甲基和苯环且属于酯类的有机物有________________种。

（11分）不久前，美国威斯康星洲Emory大学的研究者们发现了一种可以在温和条件下将硫醚（普通醚的氧原子被硫代替）选择性地氧化为硫氧化物的水溶性催化剂。新催化剂是金（III）配合物（如图），催化速度比已知以氧气为氧化剂的高温水溶性催化剂高几个数量级。该发现的潜在应用价值是可以在空气中分解掉化妆品、涂料、织物的污染物。回答下列问题：

5-1  下列物质中属于硫醚的有（   ）。

A．CH₃－SH    B．CH₃－S－CH₃   C．CH₃－－CH₃    D．CH₃CH₂－－OH

5-2  配位键是一种特殊的共价键，共享电子对完全由一个原子提供。该催化剂分子中的配位键是_____________。

5-3  “金（Ⅲ）配合物”中‘Ⅲ’表示_____________。

5-4  氧化硫醚的氧化剂一般选择过氧化氢，由于副产物是水，对环境十分友好，所以，过氧化氢被称为“绿色氧化剂”。

①过氧化氢与水比较：沸点较高的是________；密度较大的是________；常见分子中，与过氧化氢式量相同的分子是__________（填化学式）。

②过氧化氢可以看作二元弱酸，在低温、稀溶液状态下能较稳定地存在，其水溶液俗称双氧水。请设计一条实验室制备少量纯净的双氧水的合成路线（只写出原理即可）。

③HOF 是较新发现的一种特殊物质，该物质容易水解能得到有氧化性的酸性溶液。请写出该水解方程式________________________。

清洗和制绒是硅晶片制作的重要步骤之一，硅片化学清洗的主要目的是除去硅片表面杂质（如某些有机物，无机盐，金属、Si、SiO₂粉尘等）。常用的化学清洗剂有高纯水、有机溶剂、双氧水、浓酸、强碱等。其中去除硅的氧化物，通常用一定浓度的HF溶液，室温条件下将硅片浸泡1至数分钟。制绒是在硅片表面形成金字塔形的绒面，增加硅对太阳光的吸收。单晶制绒通常用NaOH，Na₂SiO₃等混合溶液在75～90℃反应25～35 min，效果良好。

回答下列问题

（1）能否用玻璃试剂瓶来盛HF溶液，为什么?用化学方程式加以解释                           ；

（2）写出晶片制绒反应的离子方程式                                    ，对单晶制绒1990年化学家Seidel提出了一种的电化学模型，他指出Si与NaOH溶液的反应，首先是Si与OH^一反应，生成SiO₄^4一，然后SiO₄^4一迅速水解生成H₄SiO₄。基于此原理分析反应中氧化剂为                     。

（3）本校化学兴趣小组同学，为验证Seidel的理论是否正确，完成以下实验：

结论：从实验上说明碱性水溶液条件下，H₂O可作                 剂；NaOH作               剂，降低反应             。高温无水环境下，NaOH作               剂。

（4）在太阳能电池表面沉积深蓝色减反膜——氮化硅晶膜。常用硅烷（SiH₄）与氨气（NH₃）在等离子体中反应。硅烷是一种无色、有毒气体，常温下与空气和水剧烈反应。下列关于硅烷、氮化硅的叙述不正确的是                。

A．在使用硅烷时要注意隔离空气和水，SiH₄能与水发生氧化还原反应生成H₂；

B．硅烷与氨气反应的化学方程式为：3SiH₄+4NH₃＝Si₃N₄+12H₂↑，反应中NH₃作氧化剂；

C．它们具有卓越的抗氧化、绝缘性能和隔绝性能，化学稳定性很好，不与任何酸、碱反应；

D．氮化硅晶体中只存在共价键，Si₃N₄是优良的新型无机非金属材料。

清洗和制绒是硅晶片制作的重要步骤之一，硅片化学清洗的主要目的是除去硅片表面杂质（如某些有机物，无机盐，金属、Si、SiO₂粉尘等）。常用的化学清洗剂有高纯水、有机溶剂、双氧水、浓酸、强碱等。其中去除硅的氧化物，通常用一定浓度的HF溶液，室温条件下将硅片浸泡1至数分钟。制绒是在硅片表面形成金字塔形的绒面，增加硅对太阳光的吸收。单晶制绒通常用NaOH，Na₂SiO₃等混合溶液在75～90℃反应25～35 min，效果良好。
回答下列问题
（1）能否用玻璃试剂瓶来盛HF溶液，为什么?用化学方程式加以解释                          ；
（2）写出晶片制绒反应的离子方程式                                   ，对单晶制绒1990年化学家Seidel提出了一种的电化学模型，他指出Si与NaOH溶液的反应，首先是Si与OH^一反应，生成SiO₄^4一，然后SiO₄^4一迅速水解生成H₄SiO₄。基于此原理分析反应中氧化剂为                    。
（3）本校化学兴趣小组同学，为验证Seidel的理论是否正确，完成以下实验：