硅单质及其化合物应用范围很广,请回答下列问题：

（1）       制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷（SiHCl₃）还原法是当前制备高纯硅的主要方法，生产过程示意图如下：

①写出由纯SiHCl₃制备高纯硅的化学反应方程式　                 　。

②整个制备过程必须严格控制无水、无氧。SiHCl₃遇水剧烈反应生成H₂SiO₃、HCl和另一种物质，写出配平的化学反应方程式　　　                　         ；H₂还原SiHCl₃过程中若混0₂，可能引起的后果是                                      。

（2）下列有关说法正确的是           （填字母）。

A.碳化硅化学性质稳定，可用于生产耐高温水泥

B.氮化硅硬度大、熔点高，可用于制作高温陶瓷和轴承

C.普通玻璃的成分有纯碱、石灰石和石英砂，其熔点很高

D.盐酸可以与硅反应，故采用盐酸为抛光液抛光单晶硅

(3)取少量硅酸钠溶液于试管中，逐滴加入盐酸溶液，振荡,则反应的离子方程式是　 　                                                           。

工业上电解饱和食盐水能制取多种化工原料，其中部分原料可用于制备多晶硅。

(1) 右图是离子交换膜法电解饱和食盐水示意图，电解槽阳极产生的气体是     ； NaOH溶液的出口为______ (填字母）；精制饱和食盐水的进口为_____ (填字母）；干燥塔中使用的液体干燥剂是____（每空2分）。

(2) 原料粗盐中常含有泥沙和Ca²⁺、Mg²⁺、Fe³⁺、SO₄^2-等杂质，必须精制后才能供电解使用。精制时，粗盐溶于水过滤后，还要加人的试剂分别为①Na₂CO₃、②HCl(盐酸）、③BaCl₂,这3种试剂添加的合理顺序是     （2分)(填序号)。

(3) 多晶硅主要采用SiHCl₃还原工艺生产,其副产物SiCl₄的综合利用受到广泛关注SiCl₄可制气相白炭黑(与光导纤维主要原料相同），方法为高温下SiCl₄与H₂和O₂反应，产物有两种，化学方程式为                          。也可转化为而循环使用。一定条件下，在20⁰C恒容密闭容器中发生反应_: ，达平衡后，H2与SiHCL₃物质的量浓度分别为0. 140mol/L和0. 020mol/L，若H₂全部来源于离子交换膜法的电解产物，理论上需消耗纯NaCl的物质的量为_______ mol。

(4)已知1 g阴极产生的气体在阳极产生的气体中完全燃烧时放出92. 3 kj的热量，则该反应的热化学方程式为:                                    。

工业上电解饱和食盐水能制取多种化工原料，其中部分原料可用于制备多晶硅。

(1) 右图是离子交换膜法电解饱和食盐水示意图，电解槽阳极产生的气体是     ； NaOH溶液的出口为______ (填字母）；精制饱和食盐水的进口为_____ (填字母）；干燥塔中使用的液体干燥剂是____（每空2分）。

(2) 原料粗盐中常含有泥沙和Ca²⁺、Mg²⁺、Fe³⁺、SO₄^2-等杂质，必须精制后才能供电解使用。精制时，粗盐溶于水过滤后，还要加人的试剂分别为①Na₂CO₃、②HCl(盐酸）、③BaCl₂,这3种试剂添加的合理顺序是     （2分)(填序号)。

(3) 多晶硅主要采用SiHCl₃还原工艺生产,其副产物SiCl₄的综合利用受到广泛关注SiCl₄可制气相白炭黑(与光导纤维主要原料相同），方法为高温下SiCl₄与H₂和O₂反应，产物有两种，化学方程式为                          (2分)。也可转化为而循环使用。一定条件下，在20⁰C恒容密闭容器中发生反应_: ，达平衡后，H2与SiHCL₃物质的量浓度分别为0. 140mol/L和0. 020mol/L，若H₂全部来源于离子交换膜法的电解产物，理论上需消耗纯NaCl的物质的量为_______ (2分)mol。

(4)已知1 g阴极产生的气体在阳极产生的气体中完全燃烧时放出92. 3 kj的热量，则该反应的热化学方程式为:                                    (2分)。

工业上电解饱和食盐水能制取多种化工原料，其中部分原料可用于制备多晶硅。
(1) 右图是离子交换膜法电解饱和食盐水示意图，电解槽阳极产生的气体是    ；NaOH溶液的出口为______(填字母）；精制饱和食盐水的进口为_____(填字母）；干燥塔中使用的液体干燥剂是____（每空2分）。

(2) 原料粗盐中常含有泥沙和Ca²⁺、Mg²⁺、Fe³⁺、SO₄^2-等杂质，必须精制后才能供电解使用。精制时，粗盐溶于水过滤后，还要加人的试剂分别为①Na₂CO₃、②HCl(盐酸）、③BaCl₂,这3种试剂添加的合理顺序是    （2分)(填序号)。
(3) 多晶硅主要采用SiHCl₃还原工艺生产,其副产物SiCl₄的综合利用受到广泛关注SiCl₄可制气相白炭黑(与光导纤维主要原料相同），方法为高温下SiCl₄与H₂和O₂反应，产物有两种，化学方程式为                         (2分)。也可转化为而循环使用。一定条件下，在20⁰C恒容密闭容器中发生反应_:，达平衡后，H2与SiHCL₃物质的量浓度分别为0. 140mol/L和0. 020mol/L，若H₂全部来源于离子交换膜法的电解产物，理论上需消耗纯NaCl的物质的量为_______ (2分)mol。
(4)已知1 g阴极产生的气体在阳极产生的气体中完全燃烧时放出92. 3 kj的热量，则该反应的热化学方程式为:                                    (2分)。

工业上电解饱和食盐水能制取多种化工原料，其中部分原料可用于制备多晶硅。

(1) 右图是离子交换膜法电解饱和食盐水示意图，电解槽阳极产生的气体是     ； NaOH溶液的出口为______ (填字母）；精制饱和食盐水的进口为_____ (填字母）；干燥塔中使用的液体干燥剂是____（每空2分）。

(2) 原料粗盐中常含有泥沙和Ca²⁺、Mg²⁺、Fe³⁺、SO₄^2-等杂质，必须精制后才能供电解使用。精制时，粗盐溶于水过滤后，还要加人的试剂分别为①Na₂CO₃、②HCl(盐酸）、③BaCl₂,这3种试剂添加的合理顺序是     （2分)(填序号)。

(3) 多晶硅主要采用SiHCl₃还原工艺生产,其副产物SiCl₄的综合利用受到广泛关注SiCl₄可制气相白炭黑(与光导纤维主要原料相同），方法为高温下SiCl₄与H₂和O₂反应，产物有两种，化学方程式为                          (2分)。也可转化为而循环使用。一定条件下，在20⁰C恒容密闭容器中发生反应_: ，达平衡后，H2与SiHCL₃物质的量浓度分别为0. 140mol/L和0. 020mol/L，若H₂全部来源于离子交换膜法的电解产物，理论上需消耗纯NaCl的物质的量为_______ (2分)mol。

(4)已知1 g阴极产生的气体在阳极产生的气体中完全燃烧时放出92. 3 kj的热量，则该反应的热化学方程式为:                                    (2分)。