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纯碱是一种重要的化工原料。目前制碱工业主要有“氨碱法”和“联合制碱法”两种工艺。请按要求回答问题:

(1)“氨碱法”产生大量CaCl2废弃物,请写出该工艺中产生CaCl2的化学方程式:___________________________。

(2)写出“联合制碱法”有关反应的化学方程式:_______________________

(3)CO2是制碱工业的重要原料,“联合制碱法”与“氨碱法”中CO2的来源有何不同?_______________________。

(4)绿色化学的重要原则之一是提高反应的原子利用率。根据“联合制碱法”总反应列出计算原子利用率的表达式:原子利用率(%)=_________________。

 

(1)2NH4Cl+Ca(OH)22NH3↑+CaCl2+2H2O

(2)NH3+CO2+H2O=NH4HCO3

NaCl+NH4HCO3=NaHCO3↓+NH4Cl

2NaHCO3Na2CO3+H2O↑+CO2↑

(3)“联合制碱法”中的CO2来源于合成氨厂,“氨碱法”中的CO2来源于煅烧石灰石

(4) ×100%=49.77%

【解析】氨碱法的原料:氯化钠、碳酸钙(或二氧化碳)及氨。

工艺流程:CaCO3 CaO+CO2↑CO2+NH3+H2O=NH4HCO3,

NaCl+NH4HCO3=NaHCO3↓+NH4Cl,2NaHCO3Na2CO3+H2O↑+CO2↑,

CaO+H2O=Ca(OH)2,

产生CaCl2的反应:Ca(OH)2+2NH4Cl CaCl2+2NH3↑+2H2O,该反应的CaCl2中的Cl-来源于NaCl,Ca2+来源于CaCO3,产生无用的CaCl2,降低了NaCl的利用率。

联合制碱法:NH3和CO2来源于合成氨厂

工艺流程:NH3+CO2+H2O=NH4HCO3,

NaCl+NH4HCO3=NaHCO3↓+NH4Cl,

2NaHCO3 Na2CO3+H2O↑+CO2↑。

 

依据总反应:2NaCl+CO2+H2O+2NH3=Na2CO3+2NH4Cl

可得:原子利用率=×100%=49.77%。

 

练习册系列答案
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硅单质及其化合物应用很广。请回答下列问题:

(1)制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法,生产过程示意图如下 :

 

①写出由纯SiHCl3制备高纯硅的化学反应方程式____________________。

②整个制备过程必须严格控制无水、无氧。SiHCl3遇水剧烈反应生成H2SiO3、HCl和另一种物质,写出配平的化学反应方程式____________________;H2还原SiHCl3过程中若混有O2,可能引起的后果是____________________。

(2)下列有关硅材料的说法正确的是 (  )。

A.单质硅化学性质稳定,但可以被强碱溶液腐蚀

B.盐酸可以与硅反应,故采用盐酸为抛光液抛光单晶硅

C.普通玻璃是由纯碱、石灰石和石英砂制成的,其熔点很高

D.光导纤维的主要成分是SiO2

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A.高温结构陶瓷  B.生物陶瓷  C.导电陶瓷

 

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A.BaCl2、NaOH、Na2CO3

B.BaCl2、Na2CO3、NaOH

C.NaOH、BaCl2、Na2CO3

D.Na2CO3、BaCl2、NaOH

 

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A.A城近郊 B.B城近郊 C.C城近郊 D.D城近郊

 

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请回答:

(1)母液Ⅱ中所溶解的主要物质是________(写物质的化学式)。母液Ⅱ中含有低浓度的Na2CO3,主要原因是__________________________

(2)向母液Ⅱ中通入气体时要先通氨气后通二氧化碳气体,主要原因是_______________________________________

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③用硫化钠与石灰石反应制Na2CO3;Na2S+CaCO3Na2CO3+CaS

(2)下列说法正确的是 (  )。

A.②③两步都是氧化还原反应

B.只有第②步是氧化还原反应

C.该方法对生产设备基本没有腐蚀

D.该方法对环境污染较小

 

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