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    W、X、Y、Z是四种常见的短周期元素，其原子半径随原子序数变化如图所示．已知W的一种核素的质量数为18，中子数为10；X和Ne原子的核外电子数相差1；Y的单质是一种常见的半导体材料；Z是同周期中非金属性最强的元素．

    (1)W原子的结构示意图为________．

    (2)X位于元素周期表第________周期第________族．

    (3)Y的最高价氧化物对应的水化物的化学式为________．

    (4)Z单质与溴单质相比，更易与氢气发生化合反应的是________(写化学式)．

    (5)X与W能形成两种化合物，其化学式为________、________．

    答案：
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    科目：高中化学 来源： 题型：

    W、X、Y、Z是四种常见的短周期元素，其原子半径随原子序数变化如图所示．已知W的一种核素的质量数为18，中子数为10；X和Ne原子的核外电子数相差1；Y的单质是一种常见的半导体材料；Z是
    是同周期中非金属性最强的元素．
    （1）X位于元素周期表的位置
    第三周期、IA族
    第三周期、IA族
    ，X与硫元素形成的化合物的电子式为

    （2）Z的气态氢化物和溴化氢相比，较稳定的是
    HCl
    HCl
     （写化学式）．理由为
    氯元素的非金属性强于溴元素，所以HCl比HBr稳定
    氯元素的非金属性强于溴元素，所以HCl比HBr稳定
    ．
    （3）Y与Z形成的化合物硬度小、熔点低、沸点低，其晶体中有存在的作用力有
    范德华力（或分子间作用力）极性共价键（或共价键）
    范德华力（或分子间作用力）极性共价键（或共价键）

    其分子属于
    非极性分子
    非极性分子
    （填极性分子、非极性分子），它和足量水反应，有白色胶状沉淀产生，该反应的化学方程式是
    SiCl4+3H2O=H2SiO3↓+4HCl或SiCl4+4H2O=H4SiO4↓+4HCl
    SiCl4+3H2O=H2SiO3↓+4HCl或SiCl4+4H2O=H4SiO4↓+4HCl
    ．
    （4）在25°C、101kPa下，已知Y的气态氢化物在氧气中完全燃烧后恢复至原状态，平均每转移1mol 电子放热190.0kJ，该反应的热化学方程式是
    SiH4（g）+2O2（g）=SiO2（s）+2H2O（l）△H=-1520.0kJ/mol
    SiH4（g）+2O2（g）=SiO2（s）+2H2O（l）△H=-1520.0kJ/mol
    ．

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    科目：高中化学 来源： 题型：

    （2011?安徽）W、X、Y、Z是四种常见的短周期元素，其原子半径随原子序数变化如下图所示．已知W的一种核素的质量数为18，中子数为10；X和Ne原子的核外电子数相差1；Y的单质是一种常见的半导体材料；Z的电负性在同周期主族元素中最大．
    （1）X位于元素周期表中第
    三
    三
     周期第
    ⅠA
    ⅠA
     族；W的基态原子核外有
    2
    2
     个未成对电子．
    （2）X的单质和Y的单质相比，熔点较高的是
    Si
    Si
    （写化学式）；Z的气态氢化物和溴化氢相比，较稳定的是
    HCl
    HCl
     （写化学式）．
    （3）Y与Z形成的化合物和足量水反应，生成一种弱酸和一种强酸，该反应的化学方程式是
    SiCl4+3H2O═H2SiO3+4HCl
    SiCl4+3H2O═H2SiO3+4HCl
    ．
    （4）在25°C、101kPa下，已知Y的气态化物在氧气中完全燃烧后恢复至原状态，平均每转移1mol 电子放热190.0kJ，该反应的热化学方程式是
    SiH4（g）+2O2（g）
     点燃 
    .
     
    SiO2（s）+2H2O（l）△H=-1520kJ/mol
    SiH4（g）+2O2（g）
     点燃 
    .
     
    SiO2（s）+2H2O（l）△H=-1520kJ/mol
    ．

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    科目：高中化学 来源： 题型：

    （2013?济宁一模）W、X、Y、Z是四种常见的短周期元素，其原子半径随原子序数变化如图．已知W的一种核素的质量数为18，中子数为10；X和Ne原子的核外电子数相差1；Y的单质是一种常见的半导体材料；Z的非金属性在同周期元素中最强，下列说法正确的是（　　）

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    科目：高中化学 来源： 题型：

    W、X、Y、Z是四种常见的短周期元素，其原子半径随原子序数变化如下图所示．已知W的一种核素的质量数为18，中子数为10；X和Ne原子的核外电子数相差1；Y的单质是一种常见的半导体材料；Z的电负性在同周期主族元素中最大．（以下答案的W、X、Y、Z必须用相应的元素符号代替）
    （1）X的原子结构示意图为
    ；W的基态原子核外有
    2
    2
    个未成对电子．
    （2）XZ与X2W都属于
    离子
    离子
    晶体（写晶体类型）；其熔点较高的是
    Na2O
    Na2O
     （写化学式），原因是
    氯离子的半径大于氧离子半径，氧化钠中核间距小且氧离子所带电荷多，氧化钠的晶格能大
    氯离子的半径大于氧离子半径，氧化钠中核间距小且氧离子所带电荷多，氧化钠的晶格能大
    ．
    （3）YZ4和足量的水反应，生成一种弱酸和一种强酸，该反应的化学方程式是
    SiCl4+4H2O=H4SiO4↓+4HCl
    SiCl4+4H2O=H4SiO4↓+4HCl
    ．

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    科目：高中化学 来源： 题型：

    精英家教网W、X、Y、Z是四种常见的短周期元素，其原子半径随原子序数变化如下图所示．已知W的一种核素的质量数为14，中子数为7；X的离子与NH4+具有相同的质子、电子数目； W与Y的氧化物均能导致酸雨的形成；Z的非金属性在同周期主族元素中最强．
    （1）Y在周期表中的位置是
     
    ．
    （2）用电子式解释X与W能形成化合物X3W的原因
     
    ．
    （3）X3W遇水可释放出使酚酞溶液变红的气体A，化学方程式是
     
    ．
    （4）用惰性电极电解化合物XZ溶液从阴极释放出气体B，反应的离子方程式是
     
    ．
    （5）已知W的单质与气体B在一定条件下可形成气体A，即：W2（g）+3B （g）?2A（g）△H=-92.4kJ?mol-1
    在某温度时，一个容积固定的密闭容器中，发生上述反应．在不同时间测定的容器内各物质的浓度如下表：
    时间 浓度（mol/L）
    c（W2） c（B） c（A）
    第0min 4.0 9.0 0
    第10min 3.8 8.4 0.4
    第20min 3.4 7.2 1.2
    第30min 3.4 7.2 1.2
    第40min 3.6 7.8 0.8
    ①W2的平均反应速率v（0min～10min）/v（10min～20min）=
     
    ；
    ②反应在第10min改变了反应条件，改变的条件可能是
     
    ；
    a．更新了催化剂   b．升高温度   c．增大压强   d．增加B的浓度
    ③若反应从第30min末又发生了一次条件改变，改变的反应条件可能是
     
    ；
    a．更新了催化剂   b．升高温度   c．增大压强   d．减小A的浓度．

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