（2012?海南）在FeCl₃溶液蚀刻铜箔制造电路板的工艺中，废液处理和资源回收的过程简述如下：（己知：Ksp[Fe（OH）₃]=4.0×10^-38）
Ⅰ：向废液中投入过量铁屑，充分反应后分离出固体和滤液：
Ⅱ：向滤液中加入一定量石灰水，调节溶液pH，同时鼓入足量的空气．
回答下列问题：
（1）FeCl₃蚀刻铜箔反应的离子方程式为：
（2）过程Ⅰ加入铁屑的主要作用是，分离得到固体的主要成分是，从固体中分离出铜需采用的方法是；
（3）过程Ⅱ中发生反应的化学方程式为；
（4）过程Ⅱ中调节溶液的pH为5，金属离子浓度为．（列式计算）

（2012?海南）25℃时，a mol?L^-1一元酸HA与b mol?L^-1NaOH等体积混合后，pH为7，则下列关系一定正确的是（　　）

（2012?海南）（1）下列有关元素锗及其化合物的叙述中正确的是
A．锗的第一电离能高于碳而电负性低于碳
B．四氯化锗与四氯化碳分子都是四面体构型
C．二氧化锗与二氧化碳都是非极性的气体化合物
D．锗和碳都存在具有原子晶体结构的单质
（2）铜在我国有色金属材料的消费中仅次于铝，广泛地应用于电气、机械制造、国防等领域．回答下列问题：
①铜原子基态电子排布式为；
②用晶体的x射线衍射法可以测得阿伏加德罗常数．对金属铜的测定得到以下结果：晶胞为面心立方最密堆积，边长为361pm．又知铜的密度为9.00g?cm^-3，则镉晶胞的体积是cm³、晶胞的质量是g，阿伏加德罗常数为
（列式计算，己知Ar（Cu）=63.6）；
（3）氯和钾与不同价态的铜可生成两种化合物，这两种化合物都可用于催化乙炔聚合，其阴离子均为无限长链结构（如图），a位置上Cl原子的杂化轨道类型为．已知其中一种化合物的化学式为KCuCl₃，另一种的化学式为；
（4）金属铜单独与氨水或单独与过氧化氢都不能反应，但可与氨水和过氧化氢的混合溶液反应，其原因是，反应的化学方应程式为．

（2012?海南模拟）80℃时，将0.40mol的N₂O₄气体充入2L已经抽空的固定容积的密闭容器中，发生如下反应：N₂O₄?2NO₂，△H＞0隔一段时间对该容器内的物质进行分析，得到如下数据：

时间（s）n（mol）	0	20	40	60	80	100
n（N2O4）	0.40	a	0.20	c	d	e
n（NO2）	0.00	0.24	b	0.52	0.60	0.60

（1）计算20s-40s内用N₂O₄表示的平均反应速率为 mol?L^-1?s^-1
（2）计算在80℃时该反应的平衡常数K=；
（3）要增大该反应的K值，可采取的措施有（填序号）
A．增大N₂O₄的起始浓度
B．向混合气体中通入NO₂
C．使用高效催化剂
D．升高温度
（4）如图是80℃时容器中N₂O₄物质的量的变化曲线，请在该图中补画出该反应在60℃时N₂O₄物质的量的变化曲线．

（2012?海南）下列各组中，每种电解质溶液在惰性电极条件下电解时只生成氢气和氧气的是（　　）