题目列表(包括答案和解析)
(一种常见的化妆品防霉剂)，其生产过程如下图（反应条件没有全部注明）：
根据上述合成路线回答：
(1)有机物A的结构简式_________________。
(2)反应④的化学方程式（有机物写结构简式，要注明反应条件）：
______________________________________。
(3)反应③的反应类型（填编号）_________________，反应⑤的反应类型（填编号）_________________。
A.取代反应 B.加成反应 C.消去反应 D.酯化反应 E.氧化反应
(4)反应③的化学方程式_______________________________。
(5)在合成线路中，设计第③和第⑥这两步反应的目的是_______________________。
工业上用甲苯生产对-羟基苯甲酸乙酯 
(一种常见的化妆品防霉剂)，其生产过程如下图（反应条件没有全部注明）：
根据上述合成路线回答：
⑴ 有机物A的结构简式____________________。
⑵ 反应⑤的化学方程式（有机物写结构简式，要注明反应条件）：
_______________________________________________________________。
⑶ 反应②的反应类型（填编号）_____，反应④的反应类型（填编号）_____。
A．取代反应 B．加成反应 C．消去反应 D．酯化反应 E．氧化反应
⑷ 反应③的化学方程式______________________________________。
⑸ 在合成线路中，设计第③和第⑥这两步反应的目的是
工业上用甲苯生产对羟基苯甲酸乙酯
(一种常见的化妆品防霉剂)，其生产过程如下图(反应条件没有全部注明)：
根据上述合成路线回答：
(1)有机物A的结构简式________．
(2)反应④的化学方程式(有机物写结构简式，要注明反应条件)：________．
(3)反应③的反应类型(填编号)________，反应⑤的反应类型(填编号)________．
A．取代反应
B．加成反应
C．消去反应
D．酯化反应
E．氧化反应
(4)反应③的化学方程式________．
(5)在合成线路中，设计第③和第⑥这两步反应的目的是________．
（一种常见的化妆品防霉剂），其生产过程如图（反应条件没有全部注明）：
时，不可选用的试剂是（选填编号）
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