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    工业制粗硅 【查看更多】

     

    题目列表(包括答案和解析)

    工业制造粗硅的化学方程式为：SiO2+2C
     高温 
    .
     
    Si+2CO↑，在这个氧化还原反应中，氧化剂和还原剂的物质的量之比是（　　）
    A、1：2B、2：1
    C、1：1D、5：2

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    工业由粗硅制取纯硅有以下反应：

    ①Si(s) + 3 HCl(g)SiHCl3(g) + H2(g)；△H = -318 kJ·mol-l

    ②SiHCl3(g) + H2(g)Si(s) + 3 HCl(g)；

    下列关于上述反应的说法中不正确的是

    A．反应①、②均为氧化还原反应       

    B．反应①、②均为置换反应

    C．若反应①放热，则反应②一定吸热   

    D．欲提高SiHCl3产率，可减压或升温

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    工业制造粗硅的化学方程式为：SiO2+2C
    高温
    .
    Si+2CO↑，在这个氧化还原反应中，氧化剂和还原剂的物质的量之比是（　　）
    A．1：2B．2：1C．1：1D．5：2

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    工业制造粗硅的化学方程式为：SiO2+2C数学公式Si+2CO↑，在这个氧化还原反应中，氧化剂和还原剂的物质的量之比是


    1. A.
      1：2
    2. B.
      2：1
    3. C.
      1：1
    4. D.
      5：2

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    工业上用“三氯氢硅还原法”，提纯粗硅的工艺流程如图所示：

    （1）三氯氢硅的制备原理：Si（s）+3HCl（g）?SiHCl3（g）+H2（g）△H=-210kJ/mol
    工业上为了加快SiHCl的生成速率而又不降低硅的转化率，可以采用的方法是
    升高温度或增大氢气与SiHCl3的物质的量之比或增大氢气浓度；
    升高温度或增大氢气与SiHCl3的物质的量之比或增大氢气浓度；
    ．
    （2）除上述反应外，还伴随着副反应：Si（s）+4HCl（g）?SiCl4（g）+2H2（g）△H=-241kJ/mol．已知：SiHCl、SiCl4常温下均为液体．
    ①工业上分离SiHCl、SiCl4的操作方法为
    蒸馏
    蒸馏
    ．
    ②反应SiHCl3（g）+HCl（g）?SiCl4（g）+H2（g）的△H=
    -31
    -31
    kJ/mol．
    （3）该生产工艺中可以循环使用的物质是
    氯化氢、氢气
    氯化氢、氢气
    （填物质名称）．

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