一平行板电容器中存在匀强电场，电场沿竖直方向。两个比荷（即粒子的电荷量与质量之比）不同的带正电的粒子和，从电容器的点（如图）以相同的水平速度射入两平行板之间。测得和与电容极板的撞击点到入射点之间的水平距离之比为1:2。若不计重力，则和的比荷之比是                                          （    ）

Ａ．　1:2           　         B．　1:8      　  　                                   C．　 4:1              D．　 2:1    

一平行板电容器中存在匀强电场，电场沿竖直方向。两个比荷（即粒子的电荷量与质量之比）不同的带正电的粒子和，从电容器的点（如图）以相同的水平速度射入两平行板之间。测得和与电容极板的撞击点到入射点之间的水平距离之比为1:2。若不计重力，则和的比荷之比是                                          （    ）

Ａ．　1:2           　         B．　1:8      　  　                                   C．　 4:1              D．　 2:1    

一平行板电容器中存在匀强电场，电场沿竖直方向。两个比荷（即粒子的电荷量与质量之比）不同的带正电的粒子和，从电容器的点（如图）以相同的水平速度射入两平行板之间。测得和与电容极板的撞击点到入射点之间的水平距离之比为1:2。若不计重力，则和的比荷之比是                     （    ）

Ａ．　1:2           　      B．　1:8      　  　      C．　 4:1          D．　 2:1    

一平行板电容器中存在匀强电场，电场沿竖直方向。两个比荷（即粒子的电荷量与质量之比）不同的带正电的粒子和，从电容器的点（如图）以相同的水平速度射入两平行板之间。测得和与电容极板的撞击点到入射点之间的水平距离之比为1:2。若不计重力，则和的比荷之比是                                          （    ）

Ａ．　1:2           　         B．　1:8      　  　                                   C．　 4:1              D．　 2:1