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    5．下列有关Si及SiO2的用途说法不正确的是 ( ) A．SiO2用于制造光导纤维 B．水晶.玛瑙和石英的主要成分都是SiO2 C．Si可用于造变压器铁芯 D．因为Si是导体.所以可以用于制造集成电路 【查看更多】

     

    题目列表(包括答案和解析)

    晶体硅是一种重要的非金属材料，在现代电子工业中具有非常重要的应用．工业上制备高纯硅的主要步骤如下：

    （1）下列有关硅及化合物的说法，正确的是
    ABD
    ABD
    ．
    A．石英的主要成分是SiO2
    B．太阳能电池使用单质硅做材料，其应用有利于环保、节能
    C．粗硅制备高纯硅的过程不涉及氧化还原反应
    D．玻璃、水泥、陶瓷都属于硅酸盐产品
    （2）SiCl4在室温下为无色液体，易挥发，粗硅与氯气反应得到的粗SiCl4中含有大量固体杂质，通过“操作A”提纯得到纯SiCl4，操作A的名称是
    蒸馏（分馏、精馏均可）
    蒸馏（分馏、精馏均可）
    ．
    （3）整个制备过程必须严格控制无水无氧．H2还原SiCl4过程中发生的反应是：
    2H2+SiCl4
     高温 
    .
     
    Si+4HCl
    2H2+SiCl4
     高温 
    .
     
    Si+4HCl
    在该过程中若有O2混入，可能引起的后果是
    引起爆炸
    引起爆炸
    ．

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    晶体硅是一种重要的非金属材料，在现代电子工业中具有非常重要的应用．工业上制备高纯硅的主要步骤如下：

    （1）下列有关硅及化合物的说法，正确的是______．
    A．石英的主要成分是SiO2
    B．太阳能电池使用单质硅做材料，其应用有利于环保、节能
    C．粗硅制备高纯硅的过程不涉及氧化还原反应
    D．玻璃、水泥、陶瓷都属于硅酸盐产品
    （2）SiCl4在室温下为无色液体，易挥发，粗硅与氯气反应得到的粗SiCl4中含有大量固体杂质，通过“操作A”提纯得到纯SiCl4，操作A的名称是______．
    （3）整个制备过程必须严格控制无水无氧．H2还原SiCl4过程中发生的反应是：______ Si+4HCl

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    晶体硅是一种重要的非金属材料，在现代电子工业中具有非常重要的应用。工业上制备高纯硅的主要步骤如下
    （1）下列有关硅及化合物的说法，正确的是__________。
    A．石英的主要成分是SiO2
    B．太阳能电池使用单质硅做材料，其应用有利于环保、节能
    C．粗硅制备高纯硅的过程不涉及氧化还原反应
    D．玻璃、水泥、陶瓷都属于硅酸盐产品
    （2）SiCl4在室温下为无色液体，易挥发，粗硅与氯气反应得到的粗SiCl4中含有大量固体杂质，通过操作A提纯得到纯SiCl4，操作A的名称是___________。
    （3）整个制备过程必须严格控制无水无氧。H2还原SiCl4过程中发生的反应是：______________________在该过程中若有O2混入，可能引起的后果是___________________________。

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    下列关于Si与SiO2的叙述中, 错误的是  

    [　　]

    A.常温下, Si和SiO2均不能与F2、HF及NaOH溶液发生反应.

    B.Si、SiO2和HCl、HNO3、H2SO4,均不反应(常温).

    C.Si的最高氧化物水化物是H4SiO4, 它的酸酐是SiO2.

    D.SiO2与Na2CO3反应生成Na2SiO3和CO2说明SiO2比CO2活泼.   

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    下列有关现象及对应的离子方程式或化学反应方程式不正确的是（　　）

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