（1）电子工业需要用30%的FeCl₃溶液腐蚀敷在绝缘板上的铜，制造印刷电路板．
请写出FeCl₃溶液与铜反应的化学方程式：．检验反应后的溶液中存在Fe³⁺的试剂是：．
（2）某一反应体系有反应物和生成物共五种物质：O₂、H₂CrO₄、Cr（OH）₃、H₂O、H₂O₂．已知该反应中H₂O₂只发生如下过程：H₂O₂→O₂
①该反应中的还原剂是．
②该反应中，发生还原反应的过程是→．
③如反应转移了0.3mol电子，则产生的气体在标准状况下体积为．

（1）电子工业需要用30%的FeCl₃溶液腐蚀敷在绝缘板上的铜，制造印刷电路板．检验反应后的溶液中存在Fe³⁺的试剂和现象是．
（2）欲从腐蚀后的废液中回收铜并重新获得FeCl₃溶液．
供选择的试剂：①浓氨水  ②浓硝酸  ③稀盐酸  ④烧碱  ⑤铁粉  ⑥氯水
可能进行的操作是：A．过滤   B． 萃取   C．分液   D．结晶
你所选择的试剂（填数字代号）；
你所选择的操作（填字母代号）；
写出整个过程发生反应的离子方程式．

（1）电子工业需要用30%的FeCl₃溶液腐蚀敷在绝缘板上的铜，制造印刷电路板．
请写出FeCl₃溶液与铜反应的化学方程式：______．检验反应后的溶液中存在Fe³⁺的试剂是：______．
（2）某一反应体系有反应物和生成物共五种物质：O₂、H₂CrO₄、Cr（OH）₃、H₂O、H₂O₂．已知该反应中H₂O₂只发生如下过程：H₂O₂→O₂
①该反应中的还原剂是______．
②该反应中，发生还原反应的过程是______→______．
③如反应转移了0.3mol电子，则产生的气体在标准状况下体积为______．