题目列表(包括答案和解析)
某学校同学进行乙醇的化学性质实验探究学习,以下为他们的学习过程。
(一)结构分析
(1)写出乙醇的结构式 ;官能团的电子式 。
(二)性质预测
(2)对比乙醇和乙烷的结构,经过讨论,同学们认为乙醇分子中氧原子吸引电子能力较强,预测在一定条件下分子中 键(填写具体共价键)容易发生断裂。为此,他们查阅了相关资料,获得了以下乙醇性质的部分事实。
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下列关于乙醇结构和性质的分析、理解错误的是
A.-OH对-C2H5的影响使乙醇与钠的反应比水与钠的反应速率慢ks5u
B. 乙醇在浓硫酸催化下,170℃时脱水生成乙烯的反应为消去反应
C. 乙醇的核磁共振氢谱图上有3个吸收峰,其强度之比为3︰2︰1,与钠反应的是
吸收强度最小的氢原子
D. 乙醇与甲醚互为官能团异构体
(三)设计方案、进行实验
甲同学用4mL 95%的乙醇、8mL90%浓硫酸、
6g溴化钠研究乙醇转化为溴乙烷的反应。右图
是他设计的实验装置图(已省略部分夹持仪器)。
请回答有关问题。
(3)预计实验时装置Ⅰ主要发生两个反应,写出反应②的化学方程式。
①2NaBr + H2SO4 2HBr + Na2SO4,
②
(4)实验过程中,观察到反应后期烧瓶内液体颜色变棕黑,U形管右边与大气相通的导管口产生大量有刺激性气味的白雾,U形管内有少量淡黄色液体,该液体的有机成分是 。若要获得纯净的溴乙烷,方法是:实验结束后 。
(四)反思与改进
(5)乙同学认为:实验所用浓硫酸必须进行稀释,目的是 (填字母),稀释后的浓硫酸应放在 (填实验仪器名称)中。
A.减少HBr的挥发 B.防止浓硫酸分解产生SO2
C.减少副产物乙烯和乙醚的生成 D.减少Br2的生成
(6)丙同学提出应该对实验装置进行改进,请为两部分装置选择正确的措施:
A.不作改变 B.保留酒精灯加热,增加温度计且温度计水银球插入反应液中
C.水浴加热 D.冰水混合物冷却
装置Ⅰ ;装置Ⅱ 。请你再提出一条改进措施 。
(1)某化工厂排放的污水中含有Mg2+、Fe3+、Cu2+、Hg2+四种离子。甲、乙、丙三位学生分别设计了从该污水中回收纯净的金属铜的方案。
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①甲、乙、丙提出的实验方案是否能得到纯净的金属铜?
甲________________,乙_____________,丙________________。(填“能”或“不能”)
②在能制得铜的方案中,哪一步操作会导致环境污染?_________________。应增加哪些措施防止污染?__________________________。
(2)已知MgCl2·6H2O晶体在空气中加热时,释放部分结晶水,同时生成Mg(OH)Cl(碱式氯化镁)或生成MgO。下列是关于MgCl2·6H2O的综合利用:
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请回答下列问题:
①在图中的括号内填写适当的反应条件。
②Mg(OH)2固体存在如下溶解平衡:
Mg(OH)2(s)
Mg2++2OH-。向体系中加入(至少填两种不同类别的物质)______________,有利于Mg(OH)2溶解。
③依据绿色化学的原子经济的概念(即化学反应的原料中每个原子都参与反应并全部转化为产物),203 kg MgCl2·6H2O原料,可以获得29.8 kg MgO、________kg 36.5%的盐酸和________kg MgCl2。
高纯度单晶硅是典型的无机非金属材料,是制备半导体的重要材料,它的发现和使用曾引起计算机的一场“革命”。高纯硅通常用以下方法制备:用碳在高温下还原二氧化硅制得粗硅(含Fe、Al、B、P等杂质),粗硅与氯气反应生成四氯化硅(反应温度为450~500℃),四氯化硅经提纯后用氢气还原可得高纯硅。以下是实验室制备四氯化硅的装置图。
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相关信息:a.四氯化硅遇水极易水解;b.硼、铝、铁、磷在高温下均能与氯气直接化合生成相应的氯化物;c.有关物质的物理常数见下表:
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物质 |
SiCl4 |
BCl3 |
AlCl3 |
FeCl3 |
PCl5 |
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沸点/℃ |
57.7 |
12.8 |
— |
315 |
— |
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熔点/℃ |
-70.0 |
-107.2 |
— |
— |
— |
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升华温度/℃ |
— |
— |
180 |
300 |
162 |
请回答下列问题:
(1)仪器e的名称为 ,装置A中f管的作用是 ,其中发生反应的离子方程式为 。
(2)装置B中的试剂是 。
(3)某学习小组设计了以下两种实验方案:方案甲:g接装置Ⅰ;方案乙:g接装置Ⅱ。但是甲乙两个方案中虚线内装置均有不足之处,请你评价后填写下表。
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方案 |
不足之处 |
|
甲 |
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|
乙 |
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(4)在上述(3)的评价基础上,请设计一个合理方案: 。
(5)通过上述合理的装置制取并收集到的粗产物可通过精馏(类似多次蒸馏)得到高纯度四氯化硅,精馏后的残留物中,除铁元素外可能还含有的杂质元素是 (填写元素符号)。
高纯度单晶硅是典型的无机非金属材料,是制备半导体的重要材料,它的发现和使用曾引起计算机的一场“革命”。高纯硅通常用以下方法制备:用碳在高温下还原二氧化硅制得粗硅(含Fe、Al、B、P等杂质),粗硅与氯气反应生成四氯化硅(反应温度为450~500℃),四氯化硅经提纯后用氢气还原可得高纯硅。以下是实验室制备四氯化硅的装置图。
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相关信息:a.四氯化硅遇水极易水解;b.硼、铝、铁、磷在高温下均能与氯气直接化合生成相应的氯化物;c.有关物质的物理常数见下表:
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物质 |
SiCl4 |
BCl3 |
AlCl3 |
FeCl3 |
PCl5 |
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沸点/℃ |
57.7 |
12.8 |
— |
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熔点/℃ |
-70.0 |
-107.2 |
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升华温度/℃ |
— |
— |
180 |
300 |
162 |
请回答下列问题:
(1)仪器e的名称为____________,装置A中f管的作用是_______________________________________,其中发生反应的离子方程式为_____ ____________________________________ _______。
(2)装置B中的试剂是____________。
(3)某学习小组设计了以下两种实验方案:方案甲:g接装置Ⅰ;方案乙:g接装置Ⅱ。但是甲乙两个方案中虚线内装置均有不足之处,请你评价后填写下表。
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方案 |
不足之处 |
|
甲 |
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乙 |
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(4)在上述(3)的评价基础上,请设计一个合理方案:___________ ________ 。
(5)通过上述合理的装置制取并收集到的粗产物可通过精馏(类似多次蒸馏)得到高纯度四氯化硅,精馏后的残留物中,除铁元素外可能还含有的杂质元素是 (填写元素符号)。
高纯度单晶硅是典型的无机非金属材料,是制备半导体的重要材料,它的发现和使用曾引起计算机的一场“革命”。高纯硅通常用以下方法制备:用碳在高温下还原二氧化硅制得粗硅(含Fe、Al、B、P等杂质),粗硅与氯气反应生成四氯化硅(反应温度为450~500℃),四氯化硅经提纯后用氢气还原可得高纯硅。以下是实验室制备四氯化硅的装置图。![]()
相关信息:a.四氯化硅遇水极易水解;b.硼、铝、铁、磷在高温下均能与氯气直接化合生成相应的氯化物;c.有关物质的物理常数见下表:
| 物质 | SiCl4 | BCl3 | AlCl3 | FeCl3 | PCl5 |
| 沸点/℃ | 57.7 | 12.8 | — | 315 | — |
| 熔点/℃ | -70.0 | -107.2 | — | — | — |
| 升华温度/℃ | — | — | 180 | 300 | 162 |
| 方案 | 不足之处 |
| 甲 | |
| 乙 | |
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