16.1mol NA.Mg.Al分别与100mL 5.0mol·L-1的盐酸充分反应.所得的气体在同温同压下的体积关系正确的是 ( )A.相同 B.铝最多.钠最少 C.铝最多.镁和钠相同 D.钠最多.镁.铝相同 查看更多

 

题目列表(包括答案和解析)

根据下列各反应现象所归纳的元素性质不正确的是(    )

A.将一小块钠投入到盛有硫酸铜溶液的烧杯中,发现没有紫红色的铜析出。说明钠的金属性比铜弱

B.用湿润的淀粉碘化钾试纸放置在有氯气发生的导管上端,发现试纸变蓝。说明氯元素的非金属性比碘元素强

C.把H2S气体和Cl2在集气瓶中混合,一段时间后发现瓶壁有淡黄色固体析出。说明Cl的非金属性比S强

D.将0.1mol Na、Mg、Al分别与足量稀盐酸反应,反应的剧烈程度为Na>Mg>Al,说明这三种金属的活泼性为:Na>Mg>Al

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1mol Na、Mg、Al 分别与100ml 5.0mol/L的盐酸充分反应,所得的气体在同温同压下的体积关系正确的是(  )

A.相同                      B.铝最多,钠最少     

C.铝最多,镁和钠相同    D.钠最多,镁、铝相同         

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(1)向pH=6的蒸馏水中加入NaHSO4晶体,保持温度不变,测得溶液的pH=1,则水电离出来的c(H+)=
10-11 mol/L
10-11 mol/L

(2)25℃下,向浓度均为0.1mol?L-1的MgCl2和CuCl2混合溶液中逐滴加入氨水,先生成
Cu(OH)2
Cu(OH)2
沉淀(填化学式),滴加氨水至过量,部分沉淀溶解的离子方程式为
Cu2++2NH3?H2O?Cu(OH)2↓+2NH4+
Cu2++2NH3?H2O?Cu(OH)2↓+2NH4+
.已知25℃时Ksp[Mg(OH)2]=1.8×10-11,KsP[Cu(OH)2]=4.0×10-18
(3)在25℃下,将a mol?L-1的HA与0.01mol?L-1的氢氧化钠溶液等体积混合,反应平衡时溶液中c(Na+)=c(A-),则溶液显
性(填“酸”、“碱”或“中”);用含a的代数式表示HA的电离常数Ka=
10-9
a-0.01
10-9
a-0.01

(4)在1mol?L-1CuSO4溶液中含有少量的Fe3+ 杂质,pH值控制在
3.3
3.3
才能除去Fe3+ 而Cu2+仍为1mol?L-1 (当溶液中c(Fe3+)≤10-5mol?L-1时一般认为该离子已除尽).(已知某温度下Fe(OH)3的 Ksp=8.0×10-38,Cu(OH)2 的Ksp=4.0×10-18,lg2=0.3).

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(2013?朝阳区二模)硅是信息产业、太阳能电池光电转化的基础材料.锌还原四氯化硅是一种有着良好应用前景的制备硅的方法,该制备过程示意如下:

(1)焦炭在过程Ⅰ中作
还原
还原
剂.
(2)过程Ⅱ中的Cl2用电解饱和食盐水制备,制备Cl2的化学方程式是
2NaCl+2H2O
 通电 
.
 
2NaOH+Cl2↑+H2
2NaCl+2H2O
 通电 
.
 
2NaOH+Cl2↑+H2

(3)整个制备过程必须严格控制无水.
①SiCl4遇水剧烈水解生成SiO2和一种酸,反应的化学方程式是
SiCl4+2H2O═SiO2+4HCl
SiCl4+2H2O═SiO2+4HCl

②干燥Cl2时,从有利于充分干燥和操作安全的角度考虑,需将约90℃的潮湿氯气先冷却至12℃,然后再通入到浓H2SO4中.冷却的作用是
使水蒸气冷凝,减少进入浓硫酸的水量保持持续的吸水性并降低放出的热量
使水蒸气冷凝,减少进入浓硫酸的水量保持持续的吸水性并降低放出的热量

(4)Zn还原SiCl4的反应如下:
反应1:400℃~756℃,SiCl4(g)+2Zn(l)?Si(s)+2ZnCl2(l)△H1<0
反应2:756℃~907℃,SiCl4(g)+2Zn(l)?Si(s)+2ZnCl2(g)△H2<0
反应3:907℃~1410℃,SiCl4(g)+2Zn(g)?Si(s)+2ZnCl2(g)△H3<0
①对于上述三个反应,下列说法合理的是
bcd
bcd

a.升高温度会提高SiCl4的转化率      b.还原过程需在无氧的气氛中进行
c.增大压强能提高反应的速率         d.Na、Mg可以代替Zn还原SiCl4
②实际制备过程选择“反应3”,选择的理由是
温度高反应速率快;与前两个反应比较更易于使硅分离使化学平衡向右移动提高转化率
温度高反应速率快;与前两个反应比较更易于使硅分离使化学平衡向右移动提高转化率

③已知Zn(l)═Zn(g)△H=+116KJ/mol.若SiCl4的转化率均为90%,每投入1mol SiCl4,“反应3”比“反应2”多放出
208.8
208.8
kJ的热量.
(5)用硅制作太阳能电池时,为减弱光在硅表面的反射,采用化学腐蚀法在其表面形成粗糙的多孔硅层.腐蚀剂常用稀HNO3和HF的混合液.硅表面首先形成SiO2,最后转化为H2SiF6.用化学方程式表示SiO2转化为H2SiF6的过程
SiO2+6HF═H2SiF6+2H2O
SiO2+6HF═H2SiF6+2H2O

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Na、Mg、Al各0.1mol,分别投入到100mL0.1?L-1盐酸中,充分反应后生成的H2(  )
A、Al最多B、Mg最多C、Na最多D、一样多

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同步练习册答案