题目列表(包括答案和解析)
| A、二氧化硅中有少量的氧化铝:加过量的烧碱溶液后过滤 | B、NH4Cl中有少量的I2:通过加热的方法 | C、Na2CO3溶液(Na2SO4):加入适量Ba(OH)2溶液,过滤 | D、CO2气体(HCl):通过饱和NaHCO3溶液后干燥 |
下列除杂质的操作方法正确的是( )
| A.二氧化硅中有少量的氧化铝:加过量的烧碱溶液后过滤 |
| B.NH4Cl中有少量的I2:通过加热的方法 |
| C.Na2CO3溶液(Na2SO4):加入适量Ba(OH)2溶液,过滤 |
| D.CO2气体(HCl):通过饱和NaHCO3溶液后干燥 |
下列除杂质的操作方法正确的是( )
A.二氧化硅中有少量的氧化铝:加过量的烧碱溶液后过滤
B.NH4Cl中有少量的I2:通过加热的方法
C. Na2CO3溶液(Na2SO4):加入适量Ba(OH)2溶液,过滤
D.CO2气体(HCl):通过饱和NaHCO3溶液后干燥
| A.二氧化硅中有少量的氧化铝:加过量的烧碱溶液后过滤 |
| B.NH4Cl中有少量的I2:通过加热的方法 |
| C.Na2CO3溶液(Na2SO4):加入适量Ba(OH)2溶液,过滤 |
| D.CO2气体(HCl):通过饱和NaHCO3溶液后干燥 |
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