工业上用“三氯氢硅还原法”制备纯硅的工业流程如图：

（1）石英砂的主要成分是         （填化学式），在制备粗硅时焦炭的作用是         。

（2）制备三氯氢硅的反应：

Si（s）+3HCl（g）SiHCl3（g）+H2（g）

伴随的副反应为：        

Si（s）+4HCl（g） SiCl4（g）+2H2（g）

已知SiHCl3和SiCl4常温下均为液体，工业上分离SiHCl3和SiCl4的操作方法

为         ；

写出SiHCl3（g）和HCl反应生成SiCl4（g）和H2的热化学方程式         。

（3）该生产工艺中可以循环使用的物质是         。

（4）实验室用SiHCl3与过量H2反应制备纯硅的装置如下图（热源及夹持装置略去）.已知SiHCl3能与H2O强烈反应，在空气中易自燃。

①装置B中的试剂是         （填名称），装置C中的烧瓶需要加热，其目的是          。

②实验中先让稀硫酸与锌粒反应一段时间后，再加热C、D装置的理由是         ，装置D中发生反应的化学方程式为         。

工业上用“三氯氢硅还原法”制备纯硅的工业流程如图：

（1）石英砂的主要成分是        （填化学式），在制备粗硅时焦炭的作用是        。

（2）制备三氯氢硅的反应：

Si（s）+3HCl（g）SiHCl3（g）+H2（g）

伴随的副反应为：        

Si（s）+4HCl（g） SiCl4（g）+2H2（g）

已知SiHCl3和SiCl4常温下均为液体，工业上分离SiHCl3和SiCl4的操作方法

为         ；

写出SiHCl3（g）和HCl反应生成SiCl4（g）和H2的热化学方程式        。

（3）该生产工艺中可以循环使用的物质是        。

（4）实验室用SiHCl3与过量H2反应制备纯硅的装置如下图（热源及夹持装置略去）.已知SiHCl3能与H2O强烈反应，在空气中易自燃。

①装置B中的试剂是         （填名称），装置C中的烧瓶需要加热，其目的是         。

②实验中先让稀硫酸与锌粒反应一段时间后，再加热C、D装置的理由是        ，装置D中发生反应的化学方程式为        。

工业上用“三氯氢硅还原法”制备纯硅的工业流程如图：

（1）石英砂的主要成分是        （填化学式），在制备粗硅时焦炭的作用是        。
（2）制备三氯氢硅的反应：
Si（s）+3HCl（g）SiHCl3（g）+H2（g）
伴随的副反应为：        
Si（s）+4HCl（g） SiCl4（g）+2H2（g）
已知SiHCl3和SiCl4常温下均为液体，工业上分离SiHCl3和SiCl4的操作方法
为        ；
写出SiHCl3（g）和HCl反应生成SiCl4（g）和H2的热化学方程式        。
（3）该生产工艺中可以循环使用的物质是        。
（4）实验室用SiHCl3与过量H2反应制备纯硅的装置如下图（热源及夹持装置略去）.已知SiHCl3能与H2O强烈反应，在空气中易自燃。
①装置B中的试剂是        （填名称），装置C中的烧瓶需要加热，其目的是         。

②实验中先让稀硫酸与锌粒反应一段时间后，再加热C、D装置的理由是        ，装置D中发生反应的化学方程式为        。

工业上用某矿渣（含有Cu₂O、Al₂O₃、Fe₂O₃、SiO₂）提取铜的操作流程如下（金属单质E可由滤液C制取）：

已知：Cu₂O + 2H⁺  = Cu + Cu²⁺ + H₂O。

（1）滤液A中铁元素的可能存在形式为_______（填离子符号），与之相关的离子方程式为_____________，若滤液A中存在Fe³⁺，检验该离子的试剂为________（填试剂名称）。

（2）写出E和F反应生成铜的化学方程式为_____________________________。

（3）利用电解法进行粗铜精炼时，下列叙述正确的是_________（填代号）。

a．若用硫酸铜溶液作电解液，SO2- 4向阴极移动

b．粗铜接电源正极，发生还原反应

c．精铜作阴极，电解后电解液中Cu²⁺浓度减小

d．当粗铜消耗6.4 g时，转移0.2N_A个电子

工业上用“三氯氢硅还原法”制备纯硅的工业流程如图：

（1）石英砂的主要成分是         （填化学式），在制备粗硅时焦炭的作用是         。

（2）制备三氯氢硅的反应：

Si（s）+3HCl（g）SiHCl3（g）+H2（g）

伴随的副反应为：        

Si（s）+4HCl（g） SiCl4（g）+2H2（g）

已知SiHCl3和SiCl4常温下均为液体，工业上分离SiHCl3和SiCl4的操作方法

为         ；

写出SiHCl3（g）和HCl反应生成SiCl4（g）和H2的热化学方程式         。

（3）该生产工艺中可以循环使用的物质是         。

（4）实验室用SiHCl3与过量H2反应制备纯硅的装置如下图（热源及夹持装置略去）.已知SiHCl3能与H2O强烈反应，在空气中易自燃。

①装置B中的试剂是         （填名称），装置C中的烧瓶需要加热，其目的是          。

②实验中先让稀硫酸与锌粒反应一段时间后，再加热C、D装置的理由是         ，装置D中发生反应的化学方程式为         。