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    33．原溶液为2mg.含NaOH: 【查看更多】

     

    题目列表(包括答案和解析)

    “卤块”的主要成分为MgCl2（含Fe2+、Fe3+、Mn2+等杂质离子），若以它为原料，按如下工艺流程图，即可制得“轻质氧化镁”。如果要求产品尽量不含杂质离子，而且成本较低，流程中所用试剂或pH值控制可参考下列附表确定。轻质氧化镁工艺流程图如下：

    表1　 化学试剂价格表　　　　　         

    试剂
    		价格（元/ t ）
    漂液（含NaClO25.2%）
    H2O2（30%）
    NaOH（固98%）
    Na2CO3（固99.5%）
    卤块（MgCl2，30%）
    		450
    2400
    2100
    600
    310
     
    表2 生成氢氧化物沉淀的值
    　　　　　　　　　
    物质
    		开始沉淀
    		沉淀完全
    Fe(OH)3
    Fe(OH)2
    Mn(OH)2
    Mg(OH)2
    		2.7
    7.6
    8.3
    9.6
    		3.7
    9.6Ω
    9.8
    11.1
    Ω注：Fe2+氢氧化物呈絮状，不易从溶液中除去，所以常将它氧化成为Fe3+，生成Fe(OH)3沉淀而去除之。请填写以下空白：
    ⑴、在步骤②加入试剂X，最佳选择应是　　　 ，其作用是　　　      　　 。
    ⑵、在步骤③加入的试剂Y应是　　　　　 ，之所以要控制pH=9.8，其目的
    是　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　 。
    ⑶、在步骤⑤时发生的化学反应方程式是：　　　　　          　　　　 。

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    “卤块”的主要成分为MgCl2（含Fe2+、Fe3+、Mn2+等杂质离子），若以它为原料，按如下工艺流程图，即可制得“轻质氧化镁”。如果要求产品尽量不含杂质离子，而且成本较低，流程中所用试剂或PH值控制可参考下列附表确定

    轻质氧化镁生产工艺流程图
    表1  生成氢氧化物沉淀的PH值
    物质
    		开始沉淀
    		沉淀完全
    Fe（OH）3
    Fe（OH）2
    Mn（OH）2
    Mg（OH）2
    		2．7
    7．6
    8．3
    9．6
    		3．7
    9．6
    9．8
    11．1
    *）注：Fe2+氢氧化物呈絮状，不易从溶液中除去，所以常常将它氧化成为Fe3+，生成
    Fe（OH）3沉淀而去除之。
    表2   化学试剂价值表
    试剂
    		价格（元/t）
    漂液（含NaClO25.2%）
    H2O2（30%）
    NaOH（固98%）
    Na2CO3（固99.5%）
    卤块（MgCl2，30%）
    		450
    2400
    2100
    600
    310
    请填写以下空白：
    （1）在步骤②加入的试剂X，最佳选择应是      ，其作用是      。
    （2）步骤③加入的试剂Y应是      ；之所以要控制pH=9.8，其目的是      。
    （3）在步骤⑤时发生的化学反应方程式是：       

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    （2010?扬州模拟）多晶硅（硅单质的一种）被称为“微电子大厦的基石”，制备中副产物以SiCl4为主，它对环境污染很大，能遇水强烈水解，放出大量的热．研究人员利用SiCl4水解生成的盐酸和钡矿粉（主要成份为BaCO3，且含有钙、铁、镁等离子）制备BaCl2?2H2O，工艺流程如下．已知常温下Fe3+、Mg2+完全沉淀的pH分别是：3.4、12.4． 
      
    （1）SiCl4水解控制在40℃以下的原因是
    防止HCl挥发污染环境或控制SiCl4的水解速率，防止反应过于剧烈
    防止HCl挥发污染环境或控制SiCl4的水解速率，防止反应过于剧烈
    ．
    已知：SiCl4（s）+H2（g）=SiHCl3（s）+HCl（g）△H1=+47kJ/mol；SiHCl3（s）+H2（g）=Si（s）+3HCl（g）△H2=+189kJ/mol
    则由SiCl4制备硅的热化学方程式为
    SiCl4（s）+2H2（g）=Si（s）+4HCl（g）△H=+236kJ/mol
    SiCl4（s）+2H2（g）=Si（s）+4HCl（g）△H=+236kJ/mol
    ．
    （2）加钡矿粉时生成BaCl2的离子反应方程式是
    BaCO3+2H+=Ba2++CO2+H2O↑
    BaCO3+2H+=Ba2++CO2+H2O↑
    ．
    （3）加20% NaOH调节pH=12.5，得到滤渣A的主要成分是
    Mg（OH）2、Ca（OH）2
    Mg（OH）2、Ca（OH）2
    ，控制温度70℃的目的是
    确保钙离子完全除去（或温度越高，Ca（OH）2溶解度越小）
    确保钙离子完全除去（或温度越高，Ca（OH）2溶解度越小）
    ．
    （4）BaCl2滤液经蒸发浓缩、降温结晶、过滤，再经真空干燥后得到?2H2O．实验室中蒸发浓缩用到的含硅酸盐的仪器有
    3
    3
    种．
    （5）为体现该工艺的绿色化学思想，该工艺中能循环利用的物质是
    BaCl2溶液
    BaCl2溶液
    ．

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    （12分）工业上需要利用一批回收的含铜废料制造胆矾（CuSO4·5H2O）。该废料中各种成份含量如下：Cu和CuO约占87%，其它为Al、Fe、Si及其氧化物，还有少量的难溶物质。工艺流程为：

    部分金属阳离子以氢氧化物形式完全沉淀时溶液的pH如下表：

    沉淀物
    		Al(OH)3
    		Fe(OH)3
    		Cu(OH)2
    		Mg(OH)2
    		Fe(OH)2
    pH
    		5.2
    		3.1
    		6.7
    		9.4
    		9.7
    回答：
    （1）步骤①中为什么要将含铜废料研磨成粉状？
                                                                        。
    （2）步骤⑤中H2O2参加反应的离子方程式：                                  。
    （3）步骤⑥中调节溶液pH时适宜的物质是               。（填序号）；
    A．NaOH     B．氨水    C．Cu2(OH)2CO3    D．Cu(OH)2      E．MgCO3
    步骤⑥中滤渣成份的化学式                             。
    （4）步骤⑦中用硫酸调节pH＝2～3的原因是                                    。
    （5）步骤⑧的分离操作是：           , 冷却结晶,               。              

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    （12分）工业上需要利用一批回收的含铜废料制造胆矾（CuSO4·5H2O）。该废料中各种成份含量如下：Cu和CuO约占87%，其它为Al、Fe、Si及其氧化物，还有少量的难溶物质。工艺流程为：

    部分金属阳离子以氢氧化物形式完全沉淀时溶液的pH如下表：
    沉淀物
    		Al(OH)3
    		Fe(OH)3
    		Cu(OH)2
    		Mg(OH)2
    		Fe(OH)2
    pH
    		5.2
    		3.1
    		6.7
    		9.4
    		9.7
    回答：
    （1）步骤①中为什么要将含铜废料研磨成粉状？
                                                                        。
    （2）步骤⑤中H2O2参加反应的离子方程式：                                  。
    （3）步骤⑥中调节溶液pH时适宜的物质是               。（填序号）；
    A．NaOH     B．氨水    C．Cu2(OH)2CO3    D．Cu(OH)2      E．MgCO3
    步骤⑥中滤渣成份的化学式                             。
    （4）步骤⑦中用硫酸调节pH＝2～3的原因是                                    。
    （5）步骤⑧的分离操作是：           , 冷却结晶,               。              

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