(1) H2O,在H2O分子之间存在着氢键的作用 (2) Na2SO3 + NaClO = Na2SO4 + NaCl (3) (4) H2(g) + Cl2 ; ΔH= -184.6KJ·mol-1 21(1)每个1分共5分 乙 同学正确 选用试剂 实验现象 第一种方法 C 有机层无色 第二种方法 D 溶液变红 (2)不可以.因为Br2和Fe3+都能把I氧化成I2 Fe2+, 2 Fe2++4Br-+3C12====2Fe3++2Br2+6Cl- 22⑴①该晶体是分子晶体.各分子间存在较弱的分子间作用力.故“可燃冰 熔沸点较低 ②890.3 kJ·mol-1 ⑵①O2+4e=2 O2– 向负极移动 ②固体碳 查看更多

 

题目列表(包括答案和解析)

(14分)有机物DBP常用作纤维素树脂和聚氯乙烯的增塑剂,特别适用于硝酸纤维素涂料。具有优良的溶解性、分散性和粘着性。由有机物A和邻二甲苯为原料可以合成DBP。


③烃A是有机合成的重要原料。A的质谱图表明其相对分子质量为42,红外光谱表明分子中含有碳碳双键;B能发生银镜反应;有机物C的核磁共振氢谱显示其分子中含有5种化学环境不同的氢原子,且个数之比为3:2:2:2:l。
回答下列问题:
(1)A的名称为___________;A在一定条件下生成聚合物的结构简式为___________________
(2)D中的含氧官能团是___________。有机物D和足量有机物C反应生成DBP的化学方程
式是____________________________________________
(3)下列说法正确的是___________ (选填序号字母)。

A.A能发生聚合反应、加成反应和氧化反应
B.与C互为同分异构体,且含有相同官能团的有机物有2种
C.邻二甲苯能氧化生成D说明有机物分子中基团之间存在影响
D.1 mol DBP可与含4mol NaOH的溶液完全反应
(4)工业上常用有机物E(C8H4O3)代替D生产DBP。反应分为两步进行:
i)E+C中间产物
ii)中间产物+C DBP+H2O
①请猜测E的结构简式___________。
②工业上生产有机物E的反应如下:2X+9O22E+4CO2+4H2O,芳香烃X的一溴代物只有两种。X的分子式是___________。

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(14分)有机物DBP常用作纤维素树脂和聚氯乙烯的增塑剂,特别适用于硝酸纤维素涂料。具有优良的溶解性、分散性和粘着性。由有机物A和邻二甲苯为原料可以合成DBP。


③烃A是有机合成的重要原料。A的质谱图表明其相对分子质量为42,红外光谱表明分子中含有碳碳双键;B能发生银镜反应;有机物C的核磁共振氢谱显示其分子中含有5种化学环境不同的氢原子,且个数之比为3:2:2:2:l。
回答下列问题:
(1)A的名称为___________;A在一定条件下生成聚合物的结构简式为___________________
(2)D中的含氧官能团是___________。有机物D和足量有机物C反应生成DBP的化学方程
式是____________________________________________
(3)下列说法正确的是___________ (选填序号字母)。
A.A能发生聚合反应、加成反应和氧化反应
B.与C互为同分异构体,且含有相同官能团的有机物有2种
C.邻二甲苯能氧化生成D说明有机物分子中基团之间存在影响
D.1 mol DBP可与含4mol NaOH的溶液完全反应
(4)工业上常用有机物E(C8H4O3)代替D生产DBP。反应分为两步进行:
i)E+C中间产物
ii)中间产物+C DBP+H2O
①请猜测E的结构简式___________。
②工业上生产有机物E的反应如下:2X+9O22E+4CO2+4H2O,芳香烃X的一溴代物只有两种。X的分子式是___________。

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清洗和制绒是硅晶片制作的重要步骤之一,硅片化学清洗的主要目的是除去硅片表面杂质(如某些有机物,无机盐,金属、Si、SiO2粉尘等)。常用的化学清洗剂有高纯水、有机溶剂、双氧水、浓酸、强碱等。其中去除硅的氧化物,通常用一定浓度的HF溶液,室温条件下将硅片浸泡1至数分钟。制绒是在硅片表面形成金字塔形的绒面,增加硅对太阳光的吸收。单晶制绒通常用NaOH,Na2SiO3等混合溶液在75~90℃反应25~35 min,效果良好。

回答下列问题

(1)能否用玻璃试剂瓶来盛HF溶液,为什么?用化学方程式加以解释                           

(2)写出晶片制绒反应的离子方程式                                    ,对单晶制绒1990年化学家Seidel提出了一种的电化学模型,他指出Si与NaOH溶液的反应,首先是Si与OH反应,生成SiO44,然后SiO44迅速水解生成H4SiO4。基于此原理分析反应中氧化剂为                     

(3)本校化学兴趣小组同学,为验证Seidel的理论是否正确,完成以下实验:

 

实验事实

事实一

水蒸汽在600℃时可使粉末状硅缓慢氧化并放出氢气。

事实二

盛放于铂或石英器皿中的纯水长时间对粉末状还原硅无腐蚀作用。

事实三

普通玻璃器皿中的水仅因含有从玻璃中溶出的微量的碱便可使粉末状硅在其中缓慢溶解。

事实四

在野外环境里,用较高百分比的硅铁粉与干燥的Ca(OH)2和NaOH,点着后焖烧,可剧烈放出H2

事实五

1g(0.036mo1)Si和20mL含有lgNaOH(0.025mol)的溶液,小心加热(稍微预热),收集到约1700mL H2,很接近理论值(1600mL)。

 

结论:从实验上说明碱性水溶液条件下,H2O可作                 剂;NaOH作               剂,降低反应             。高温无水环境下,NaOH作               剂。

(4)在太阳能电池表面沉积深蓝色减反膜——氮化硅晶膜。常用硅烷(SiH4)与氨气(NH3)在等离子体中反应。硅烷是一种无色、有毒气体,常温下与空气和水剧烈反应。下列关于硅烷、氮化硅的叙述不正确的是                

A.在使用硅烷时要注意隔离空气和水,SiH4能与水发生氧化还原反应生成H2

B.硅烷与氨气反应的化学方程式为:3SiH4+4NH3=Si3N4+12H2↑,反应中NH3作氧化剂;

C.它们具有卓越的抗氧化、绝缘性能和隔绝性能,化学稳定性很好,不与任何酸、碱反应;

D.氮化硅晶体中只存在共价键,Si3N4是优良的新型无机非金属材料。

 

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清洗和制绒是硅晶片制作的重要步骤之一,硅片化学清洗的主要目的是除去硅片表面杂质(如某些有机物,无机盐,金属、Si、SiO2粉尘等)。常用的化学清洗剂有高纯水、有机溶剂、双氧水、浓酸、强碱等。其中去除硅的氧化物,通常用一定浓度的HF溶液,室温条件下将硅片浸泡1至数分钟。制绒是在硅片表面形成金字塔形的绒面,增加硅对太阳光的吸收。单晶制绒通常用NaOH,Na2SiO3等混合溶液在75~90℃反应25~35 min,效果良好。
回答下列问题
(1)能否用玻璃试剂瓶来盛HF溶液,为什么?用化学方程式加以解释                          
(2)写出晶片制绒反应的离子方程式                                   ,对单晶制绒1990年化学家Seidel提出了一种的电化学模型,他指出Si与NaOH溶液的反应,首先是Si与OH反应,生成SiO44,然后SiO44迅速水解生成H4SiO4。基于此原理分析反应中氧化剂为                    
(3)本校化学兴趣小组同学,为验证Seidel的理论是否正确,完成以下实验:

 
实验事实
事实一
水蒸汽在600℃时可使粉末状硅缓慢氧化并放出氢气。
事实二
盛放于铂或石英器皿中的纯水长时间对粉末状还原硅无腐蚀作用。
事实三
普通玻璃器皿中的水仅因含有从玻璃中溶出的微量的碱便可使粉末状硅在其中缓慢溶解。
事实四
在野外环境里,用较高百分比的硅铁粉与干燥的Ca(OH)2和NaOH,点着后焖烧,可剧烈放出H2
事实五
1g(0.036mo1)Si和20mL含有lgNaOH(0.025mol)的溶液,小心加热(稍微预热),收集到约1700mL H2,很接近理论值(1600mL)。
 
结论:从实验上说明碱性水溶液条件下,H2O可作                剂;NaOH作              剂,降低反应            。高温无水环境下,NaOH作              剂。
(4)在太阳能电池表面沉积深蓝色减反膜——氮化硅晶膜。常用硅烷(SiH4)与氨气(NH3)在等离子体中反应。硅烷是一种无色、有毒气体,常温下与空气和水剧烈反应。下列关于硅烷、氮化硅的叙述不正确的是               
A.在使用硅烷时要注意隔离空气和水,SiH4能与水发生氧化还原反应生成H2
B.硅烷与氨气反应的化学方程式为:3SiH4+4NH3=Si3N4+12H2↑,反应中NH3作氧化剂;
C.它们具有卓越的抗氧化、绝缘性能和隔绝性能,化学稳定性很好,不与任何酸、碱反应;
D.氮化硅晶体中只存在共价键,Si3N4是优良的新型无机非金属材料。

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清洗和制绒是硅晶片制作的重要步骤之一,硅片化学清洗的主要目的是除去硅片表面杂质(如某些有机物,无机盐,金属、Si、SiO2粉尘等)。常用的化学清洗剂有高纯水、有机溶剂、双氧水、浓酸、强碱等。其中去除硅的氧化物,通常用一定浓度的HF溶液,室温条件下将硅片浸泡1至数分钟。制绒是在硅片表面形成金字塔形的绒面,增加硅对太阳光的吸收。单晶制绒通常用NaOH,Na2SiO3等混合溶液在75~90℃反应25~35 min,效果良好。
回答下列问题
(1)能否用玻璃试剂瓶来盛HF溶液,为什么?用化学方程式加以解释                          
(2)写出晶片制绒反应的离子方程式                                   ,对单晶制绒1990年化学家Seidel提出了一种的电化学模型,他指出Si与NaOH溶液的反应,首先是Si与OH反应,生成SiO44,然后SiO44迅速水解生成H4SiO4。基于此原理分析反应中氧化剂为                    
(3)本校化学兴趣小组同学,为验证Seidel的理论是否正确,完成以下实验:
 
实验事实
事实一
水蒸汽在600℃时可使粉末状硅缓慢氧化并放出氢气。
事实二
盛放于铂或石英器皿中的纯水长时间对粉末状还原硅无腐蚀作用。
事实三
普通玻璃器皿中的水仅因含有从玻璃中溶出的微量的碱便可使粉末状硅在其中缓慢溶解。
事实四
在野外环境里,用较高百分比的硅铁粉与干燥的Ca(OH)2和NaOH,点着后焖烧,可剧烈放出H2
事实五
1g(0.036mo1)Si和20mL含有lgNaOH(0.025mol)的溶液,小心加热(稍微预热),收集到约1700mL H2,很接近理论值(1600mL)。
 
结论:从实验上说明碱性水溶液条件下,H2O可作                剂;NaOH作              剂,降低反应            。高温无水环境下,NaOH作              剂。
(4)在太阳能电池表面沉积深蓝色减反膜——氮化硅晶膜。常用硅烷(SiH4)与氨气(NH3)在等离子体中反应。硅烷是一种无色、有毒气体,常温下与空气和水剧烈反应。下列关于硅烷、氮化硅的叙述不正确的是               
A.在使用硅烷时要注意隔离空气和水,SiH4能与水发生氧化还原反应生成H2
B.硅烷与氨气反应的化学方程式为:3SiH4+4NH3=Si3N4+12H2↑,反应中NH3作氧化剂;
C.它们具有卓越的抗氧化、绝缘性能和隔绝性能,化学稳定性很好,不与任何酸、碱反应;
D.氮化硅晶体中只存在共价键,Si3N4是优良的新型无机非金属材料。

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