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    下列有关纯铁的描述正确的是 (A)． 熔点比生铁的低 (B)． 与相同浓度的盐酸反应生成氢气的速率比生铁的快 (C)． 在潮湿空气中比生铁容易被腐蚀 (D)． 在冷的浓硫酸中可钝化 【查看更多】

     

    题目列表(包括答案和解析)

    (2003·广东)下列有关物质与其用途(括号内为其用途)不相对应的是

    [　　]

    A．(制光纤)

    B．Si和Ge(半导体材料)

    C．钢化玻璃(汽车窗玻璃)

    D．氮化硅陶瓷(作导热剂)

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    海水是一个巨大的化学资源库，下列有关海水综合利用的说法正确的是（　　）
    A、海水提溴的过程中，没有发生氧化还原反应B、海水中的氘（含HDO 0.03%）发生聚变的能量，足以保证人类上亿年的能源消费，HDO与H2O化学性质不同C、从海水中可以得到NaCl，电解熔融NaCl可制备金属钠D、利用蒸馏原理从海水中提取淡水是海水淡化技术发展的新方向

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    工业上可用硫酸铝与硫磺焙烧制备氧化铝：2Al2（SO4）3+3S
     高温 
    .
     
    2Al2O3+9SO2↑，下列有关说法中正确的是（　　）
    A、反应中Al2（SO4）3被氧化
    B、Al2（SO4）3、Al2O3均含有离子键和共价键
    C、5.1g Al2O3含有9.03×1022个阴离子
    D、该反应中，每转移0.3mol电子生成5.04L SO2

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    （2008?广东）硅单质及其化合物应用范围很广．请回答下列问题：
    （1）制备硅半导体材料必须先得到高纯硅．三氯甲硅烷（SiHCl3）还原法是当前制备高纯硅的主要方法，生产过程示意图如下：

    ①写出由纯SiHCl3制备高纯硅的化学反应方程式
    SiHCl3+H2
     1357K 
    .
     
    Si+3HCl
    SiHCl3+H2
     1357K 
    .
     
    Si+3HCl
    ．
    ②整个制备过程必须严格控制无水无氧．SiHCl3遇水剧烈反应生成H2SiO3、HCl和另一种物质，写出配平的化学反应方程式
    3SiHCl3+3H2O═H2SiO3+H2↑+3HCl
    3SiHCl3+3H2O═H2SiO3+H2↑+3HCl
    ；H2还原SiHCl3过程中若混O2，可能引起的后果是
    高温下，H2遇O2发生爆炸
    高温下，H2遇O2发生爆炸
    ．
    （2）下列有关硅材料的说法正确的是
    ABCD
    ABCD
    （填字母）．
    A．碳化硅化学性质稳定，可用于生产耐高温水混
    B．氮化硅硬度大、熔点高，可用于制作高温陶瓷和轴承
    C．普通玻璃是由纯碱、石灰石和石英砂的，其熔点很高
    D．盐酸可以与硅反应，故采用盐酸为抛光液抛光单晶硅
    （3）硅酸钠水溶液俗称水玻璃．取少量硅酸钠溶液于试管中，逐滴加入饱和氯化铵溶液，振荡．写出实验现象并给予解释
    生成白色絮状沉淀，又刺激性气味的气体生成，SiO32-与NH4+发生双水解反应，SiO32-+2NH4++2H2O═2NH3?H2O+H2SiO3↓
    生成白色絮状沉淀，又刺激性气味的气体生成，SiO32-与NH4+发生双水解反应，SiO32-+2NH4++2H2O═2NH3?H2O+H2SiO3↓
    ．

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    （2009?广东）下列有关有机物的说法不正确的是（　　）

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