+R′CH₂COOC₂H₅ 

聚乙烯醇肉桂酸酯是最早用于光刻胶的光敏高分子化合物，其合成途径如下：

合成步骤一：

合成步骤二：

合成步骤三：

（聚乙烯醇肉桂酸酯）

(1)写出A的结构简式：_________________。

（2）写出反应（Ⅰ）的化学方程式__________________________________。

（3）反应（Ⅱ）的类型是_________________，反应（Ⅲ）的类型是_________________。

（4）C₄H₆O₂同分异构体甚多，其中属于羧酸的同分异构体的为：_______________________、_____________________、___________________、_______________________。

光刻胶是一种应用广泛的光敏材料，其合成路线如下（部分试剂和产物略去）：

已知：

Ⅰ．（R，R’为烃基或氢）

Ⅱ． （R，R’为烃基）

（1）A分子中含氧官能团名称为          。

（2）羧酸X的电离方程式为          。

（3）C物质可发生的反应类型为          （填字母序号）。

a．加聚反应    b． 酯化反应   c．  还原反应    d．缩聚反应

（4）B与Ag(NH₃)₂OH反应的化学方程式为          。

（5）乙炔和羧酸X加成生成E，E的核磁共振氢谱为三组峰，且峰面积比为3:2:1，E能发生水解反应，则E的结构简式为          。

（6）与C具有相同官能团且含有苯环的同分异构体有4种，其结构简式分别为

、、         和         。

（7）D和G反应生成光刻胶的化学方程式为          。