SiO₂(s)+4HF(g) SiF₄(g)+2H₂O(g)?ΔH(298.15 K)=-94.0 kJ·mol^-1?

ΔS（298.15 K）=-75.8 J·mol^-1·K^-1?

设ΔH和ΔS不随温度而变化，试求此反应自发进行的温度条件。????????????

光气(COCl₂)在塑料、制革、制药等工业中有许多用途，工业上采用高温下CO与Cl₂在活性炭催化下合成。
COCl₂的分解反应为COCl₂(g)  Cl₂(g) + CO(g)　△H =" +" 108 KJ·mol^-1。反应体系达到平衡后，各物质的浓度在不同条件下的变化状况如下图所示(第10 min到14 min的COCl₂浓度变化曲线未画出)：

(1) 计算反应在第8 min 时的平衡常数K =                    ；
(2) 比较第2 min 反应温度T(2)与第8 min反应温度T(8)的高低：T(2)   T(8)(填“＜”、“＞”或“＝”)；
(3) 若12 min 时反应于温度T(8)下重新达到平衡，则此时c(COCl₂) =         mol·l^-1；
(4) 比较产物CO在2～3 min、5～6 min和12～13 min时平均反应速率[平均反应速率分别以v(2～3)、v(5～6)、v(12～13)表示]的大小　　　　　　　　　　　　　　　　　；
(5)比较反应物COCl₂在5～6 min和15～16 min时平均反应速率的大小v(5～6)      v(12～13) (填“＜”、“＞”或“＝”)，原因是                                  。

光气(COCl2)在塑料、制革、制药等工业中有许多用途，工业上采用高温下CO与Cl2在活性炭催化下合成。

已知COCl2(g) Cl2(g)＋CO(g)　ΔH＝＋108 kJ·mol－1。反应体系达到平衡后，各物质的浓度在不同条件下的变化状况如下图所示(第10 min到14 min的COCl2浓度变化曲线未示出)：

(1)化学平衡常数表达式K＝________，计算反应在第8 min时的平衡常数K＝________；

(2)比较第2 min反应温度T(2)与第8 min反应温度T(8)的高低：T(2)________T(8)(填“<”、“>”或“＝”)；

(3)若12 min时反应于温度T(8)下重新达到平衡，则此时c(COCl2)＝________；10～12 min内CO的平均反应速率为v(CO)＝________；

(4)比较产物CO在2～3min、5～6min和12～13min时平均反应速率(平均反应速率分别以v(2～3)、v(5～6)、v(12～13))的大小________________。

电子工业中清洗硅片上的SiO₂（s）的反应是：

SiO₂（s）＋4HF(g)＝Si F₄(g)＋2H₂O(g)  ΔＨ(298.15K)＝－94.0 kJ·mol^－1  ΔＳ(298.15K)＝－75.8 J·mol^－1 ·K ^－1  ，设ΔＨ和ΔＳ不随温度而变化，试求此反应自发进行的温度条件？