工业上高纯硅可以通过下列反应制取：SiCl₄(g)+ 2H₂(g)  Si (s) + 4HCl(g) －236kJ

完成下列填空：

（1）在一定温度下进行上述反应，若反应容器的容积为2L，H₂的平均反应速率为0.1mol/(L·min)，3min后达到平衡，此时获得固体的质量       g。

（2）该反应的平衡常数表达式K＝             。可以通过_______使K增大。

（3）一定条件下，在密闭恒容容器中，能表示上述反应一定达到化学平衡状态的是        。

a．2v_逆(SiCl₄)＝v_正(H₂)                 

b．断开4molSi－Cl键的同时，生成4molH－Cl键

c．混合气体密度保持不变

d．c(SiCl₄)：c(H₂)：c(HCl)＝1:2:4

（4）若反应过程如图所示，纵坐标表示氢气、氯化氢的物质的量（mol），横坐标表示时间（min），若整个反应过程没有加入或提取各物质，则第1.5分钟改变的条件是______，第3分钟改变的条件是__________，各平衡态中氢气转化率最小的时间段是_____________ 。

工业上高纯硅可以通过下列反应制取：SiCl₄(g)+ 2H₂(g)  Si (s)+ 4HCl(g) －236kJ
完成下列填空：
（1）在一定温度下进行上述反应，若反应容器的容积为2L，H₂的平均反应速率为0.1mol/(L·min)，3min后达到平衡，此时获得固体的质量      g。
（2）该反应的平衡常数表达式K＝            。可以通过_______使K增大。
（3）一定条件下，在密闭恒容容器中，能表示上述反应一定达到化学平衡状态的是       。
a．2v_逆(SiCl₄)＝v_正(H₂)                 
b．断开4molSi－Cl键的同时，生成4molH－Cl键
c．混合气体密度保持不变
d．c(SiCl₄)：c(H₂)：c(HCl)＝1:2:4
（4）若反应过程如图所示，纵坐标表示氢气、氯化氢的物质的量（mol），横坐标表示时间（min），若整个反应过程没有加入或提取各物质，则第1.5分钟改变的条件是______，第3分钟改变的条件是__________，各平衡态中氢气转化率最小的时间段是_____________ 。