三氟化氮(NF3)是微电子工业中优良的刻蚀气体.它在潮湿的环境中能发生反应:3 NF3 + 5 H2O = 2 NO + HNO3 + 9 HF.下列有关该反应的说法正确的是A．NF3在潮湿的空气中泄漏时容易被发现B．NF3是氧化剂.H2O是还原剂C．氧化产物与还原产物的物质的量之比为2:1D．若转移0.2mol电子时.生成NO气体4 题目和参考答案——青夏教育精英家教网—

三氟化氮（NF₃）是微电子工业中优良的刻蚀气体，它在潮湿的环境中能发生反应：
3 NF₃ + 5 H₂O =" 2" NO + HNO₃ + 9 HF。下列有关该反应的说法正确的是

A．NF₃在潮湿的空气中泄漏时容易被发现

B．NF₃是氧化剂，H₂O是还原剂

C．氧化产物与还原产物的物质的量之比为2:1

D．若转移0.2mol电子时，生成NO气体4.48Ｌ

3 NF₃ + 5 H₂O =" 2" NO + HNO₃ + 9 HF中，只有NF₃中N元素化合价发生变化，若泄漏会生成NO，遇空气接触会生成NO₂红棕色气体易被发现A正确；NF₃既是氧化剂又是还原剂B错误；氧化产物为HNO₃，还原产物为NO，其物质的量之比为1：2，C错；转移0.2mol电子时，生成NO气体2.24Ｌ

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A．①是非氧化还原反应，而②是氧化还原反应

B．上述反应中SO₂的作用只相当于催化剂

C．反应②中CuSO₄是氧化产物

D．反应①中SO₂发生还原反应

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