18.在20L恒容的密闭容器中.加入3mo1SO3 (g) 和l mo1O2.在一定温度下使其反 应.反应至4min时.氧气的浓度为0.09 mol·L-1.当反应到8min时.反应到达平衡. 此时三氧化硫浓度c (SO3) = a mol·L-1. (1)0min-4min内生成O2平均速率v(O2) = mol·L-1·min-1 (2)达到平衡时c (O2)=c (SO2).则a = mol·L-1.在下列坐标系中作出 0min-8min及之后SO2.O2.SO3浓度随时间变化曲线. (3)若起始时按下表数据投料.相同温度下达到平衡时.三氧化硫浓度大于a mol·L-1的是 查看更多

 

题目列表(包括答案和解析)

(共8分)在恒温恒容的密闭容器中通入1mol N2和Xmol H2发生如下反应:N2+3H22NH3。达到平衡后,测得反应放出的热量为18.4kJ,混合气体的物质的量为3.6mol,容器内的压强变为原来的90%。

(1)起始时充入H2的物质的量为               mol,氢气的转化率为                  ;

(2)该反应的热化学方程式为                                    

(3)若起始时加入N2、H2、NH3的物质的量分别为abc,达到平衡时各组分物质的量与上述平衡相同。若维持反应向正方向进行,则起始时c的取值范围是                   

 

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(共8分)在恒温恒容的密闭容器中通入1mol N2和Xmol H2发生如下反应:N2+3H22NH3。达到平衡后,测得反应放出的热量为18.4kJ,混合气体的物质的量为3.6mol,容器内的压强变为原来的90%。
(1)起始时充入H2的物质的量为              mol,氢气的转化率为                 ;
(2)该反应的热化学方程式为                                   
(3)若起始时加入N2、H2、NH3的物质的量分别为abc,达到平衡时各组分物质的量与上述平衡相同。若维持反应向正方向进行,则起始时c的取值范围是                  

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(2009?重庆)工业上电解饱和食盐能制取多种化工原料,其中部分原料可用于制备多晶硅.
(1)图是离子交换膜法电解饱和食盐水示意图,电解槽阳极产生的气体是
氯气
氯气
;NaOH溶液的出口为
a
a
(填字母);精制饱和食盐水的进口为
d
d
(填字母);干燥塔中应使用的液体是
浓硫酸
浓硫酸


(2)多晶硅主要采用SiHCl3还原工艺生产,其副产物SiCl4的综合利用收到广泛关注.
①SiCl4可制气相白炭黑(与光导纤维主要原料相同),方法为高温下SiCl4与H2和O2反应,产物有两种,化学方程式为
SiCl4+2H2+O2
 高温 
.
 
SiO2+4HCl
SiCl4+2H2+O2
 高温 
.
 
SiO2+4HCl

②SiCl4可转化为SiHCl3而循环使用.一定条件下,在20L恒容密闭容器中的反应:3SiCl4(g)+2H2(g)+Si(g)4SiHCl3(g)达平衡后,H2与SiHCl3物质的量浓度分别为0.140mol/L和0.020mol/L,若H2全部来源于离子交换膜法的电解产物,理论上需消耗纯NaCl的质量为
0.351
0.351
kg.
(3)采用无膜电解槽电解饱和食盐水,可制取氯酸钠,同时生成氢气,现制得氯酸钠213.0kg,则生成氢气
134.4
134.4
M3(标准状况).

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在20L恒容的密闭容器中,加入3molSO3(g)和1mol氧气,在某温度下使其反应,反应至4min时,氧气的浓度为0.06mol/L,当反应到8min时,反应到达平衡.
(1)0min-4min内生成O2的平均速率v(O2)=
0.025mol?L-1?min-1
0.025mol?L-1?min-1
mol/(L?min)
(2)整个过程中,各物质的浓度与时间关系如图所示,则该温度下的平衡常数
K=
0.4mol?L-1
0.4mol?L-1

(3)若起始时按下表数据投料,相同温度下达到平衡时,三氧化硫浓度大于0.05mol/L的是
BD
BD
,此时的平衡常数与(2)小题比较
等于
等于
(填“大于”、“小于”或“等于”)
A B C D
SO3 1mol 3mol 3mol 0mol
SO2 2mol 1.5mol 0mol 6mol
O2 2mol 1mol 0mol 5mol
(4)物质的浓度不再改变标志该反应已达平衡,下列还可以说明该反应已达平衡的是
①③④
①③④
(填序号)
①体系内压强不再改变
②容器内气体的密度不再改变
③混合气体的平均分子量不再改变
④V(SO3)=2V(O2
⑤n(SO3):n(O2):n(SO2)=2:1:2.

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(2013?潍坊模拟)工业上电解饱和食盐水能制取多种化工原料,其中部分原料可用于制备多晶硅.下图1是离子交换膜法(允许钠离子通过,不允许氢氧根与氯离子通过)电解饱和食盐水,电解槽阳极产生的气体是
氯气
氯气
,NaOH溶液的出口为
a
a
(填字母),精制饱和食盐水的进口为
d
d
(填字母),干燥塔中应使用的液体是
浓硫酸
浓硫酸


(1)多晶硅主要采用SiHCl3还原工艺生产,其副产物SiCl4的综合利用受到广泛关注.SiCl4可制气相白炭黑(与光导纤维主要原料相同),方法为高温下SiCl4、H2、O2反应,产物有两种,化学方程式为
SiCl4+2H2+O2
 高温 
.
 
SiO2+4HCl
SiCl4+2H2+O2
 高温 
.
 
SiO2+4HCl
.SiCl4可转化为SiCl3而循环使用.一定条件下,在20L恒容密闭容器中反应3SiCl4(g)+2H2(g)+Si(s)═4SiHCl3(g)达平衡后,H2与SiHCl3物质的量浓度分别为0.140mol/L和0.020mol/L,若H2全部来源于离子交换膜法的电解产物,理论上需消耗NaCl的质量为
0.35
0.35
kg.
(2)如图2,实验室制备H2和Cl2通常采用下列反应:
Zn+H2SO4?ZnSO4+H2↑,MnO2+4HCl(浓)
.
.
MnCl2+Cl2↑+2H2O

据此,从下列所给仪器装置中选择制备并收集H2的装置
e
e
(填代号)和制备并收集干燥、纯净Cl2的装置
d
d
(填代号).
可选用制备气体的装置:
(3)采用无膜电解槽电解饱和食盐水,可制取氯酸钠,同时生成氢气.现制得氯酸钠213.0kg,则生成氢气
134.4
134.4
m3(标准状况).(忽略可能存在的其他反应)

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同步练习册答案